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第四百一十三章 光刻机（第2页）

比如光刻机的光线能量、破坏『性』极高，制程的所有零件、材料，样样挑战人类工艺的极限，甚至因为空气分子的干扰都会影响光线，所以生产过程得在真空环境，而且，温湿度和压力变化还会影响对焦，所以在机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器，更重要的是，需要精确度极高的镜头和光源。

有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片，两者需始终同步，误差在2纳米以下，两个工作台由静到动，加速度跟导弹发『射』差不多，如此而且，机械的动作得精确到误差仅以兆分之一秒

刘琅还记得洪玉当时举了个例子，这种同步『性』就相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，还不能刻坏了。

光刻机牛不牛？当然牛，即便是刘琅这个门外汉也是觉得这种仪器人类怎么能给它造出来呢？

可人类就是给造出来来了，而且未来还会不断发展，直至量子计算机的诞生。

不过洪玉说的是三十年后的光刻机，现在大家面前的光刻机自然不能与自己的“孙子辈”相提并论了，这台光刻机的制程只有四微米，未来则是有十几个纳米，两者相差几百倍，要用机械来形容两者的差距，如果现在的光刻机比作是国产手扶拖拉机的发动机，那么未来的光刻机就是航天飞机的发动机。

“这应该就是制成达到制程4微米级别的刻纹机吧，技术真是先进，比咱们国家强出很多！”

周明目不转睛地看着感叹道。

周明曾经参加过二十多年前的卫星研制，对国家的半导体发展非常了解。

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光刻机就是在硅片上涂感光胶，用集成电路设计的电路胶片遮盖在上面进行曝光，清除感光部分，『露』出硅片在上面进行加工最后成型，简单来说，就是用光进行“雕刻”，因为电子元件都是以十几个纳米级别，世界上哪里有如此细小的“刻刀”能把这些元件雕刻在晶圆上？

不过别看光刻机如此高端，但中国却是最早研制这种仪器的国家之一。

在五十年代末期，光刻机就已经在美国被发明出来，并且随之应用在了实践之中，而六十年代初期，随着大量国外半导体专家的回归，国家也将半导体技术列为国家重点发展科目。

在那个时代，国家在半导体领域内可谓是人才济济，有名气的黄坤、谢喜德、周明等科学家们都是从国外回来的专业人才，他们带领着国家开始研究光刻技术，当时他们研制出了锗合金三极管和磁膜储存器。

到了六十年代初期，美国提出了氧化物半导体效应晶体，并且研制出了一千个元件的密集电路板，这是世界第一个二十英寸的集成电路。

而同一时期的中国沿用古老传统的照相术显微镜进行缩小曝光，采用的是人工光刻工艺，就是坐标值加喷黑铜版纸加手术刀的方式，精度也能达到零点几毫米，对于那个时代的集成电路来说也是足够了。

而到了六十年代中期，中国终于制造出了第一批接触式光刻机，这项技术已经处在世界一流行列了。

到了七十年，因为大规模集成电路产业的蓬勃发展，美国人的光刻技术终于迎来的大爆发，进入到八微米工艺时代，开发出了投影光刻机等关键工艺设备技术，并在七十年代中期年建立了世界第一条十二英寸的集成电路生产线，也就是众人面前的这套四微米制程工艺。

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